近年來，紫外線技術廣泛應用於各行各業水處理，如微電子、製藥、發電、食品和飲料、化妝品、水產業、直飲水等。紫外線技術不但可用於消毒而且也可用於降TOC(總有機碳)含量和清除臭氧。紫外線技術的最新發展使TOC降解的效率和性能有了很大的提高。

在半導體製造方面，漂洗水中既使含有極微量的TOC都會對半導體蕊片生產造成嚴重問題。越來越小的微集成電路蕊片對超純水提出了更嚴格的要求，對淨水系統設計和設施工程提出了更大的挑戰性。因為TOC會引起硅晶片表面出現缺陷，造成電極短路。此外，有機物為微生物提供大量所需的營養，促進其生長繁殖。

利用活性碳過濾器和逆滲透(RO)系統或去離子(DI)系統可以減少一些TOC含量；然而，為了大量的減低TOC，通常都是用紫外線作為處理過程中的最後一步。這是簡單而又非常有效的方法。低壓石英紫外線燈185納米的放射線會產生羥基(OH)自由基，自由基能將大部分有機物氧化成二氧化碳(CO2)和水(H2O)。如:   TOC+UV185nm→CO2+H2O

規格表：