近年、UV技術は、マイクロエレクトロニクス、製薬、発電、食品および飲料、化粧品、水産養殖、直接飲料水など、さまざまな産業の水処理に広く使用されています.紫外線技術は消毒だけでなく、TOC（全有機炭素）含有量の低減やオゾンの除去にも使用できます。 UV 技術の最近の発展により、TOC 分解の効率と性能が大幅に向上しました。

半導体製造では、リンス水中の TOC が微量であっても、半導体チップの製造に深刻な問題を引き起こす可能性があります。マイクロチップ チップがますます小さくなると、超純水に対する要件が厳しくなり、浄水システムの設計と施設のエンジニアリングに大きな課題が生じます。 TOCはシリコンウェーハの表面に欠陥を引き起こし、電極の短絡を引き起こすためです。さらに、有機物は、微生物の成長と繁殖を促進するために必要な大量の栄養素を微生物に提供します。

一部の TOC レベルは、活性炭フィルターと逆浸透 (RO) システムまたは脱イオン (DI) システムを使用して削減できますが、TOC を大幅に削減するには、通常、処理プロセスの最後のステップとして UV 光が使用されます。これはシンプルですが、非常に効果的な方法です。低圧石英紫外線ランプの 185nm 放射はヒドロキシル (OH) ラジカルを生成し、ほとんどの有機物を二酸化炭素 (CO2) と水 (H2O) に酸化することができます。好き：   TOC+UV185nm→CO2+H2O

仕様表: